文档类型
文章
出版日期
1 - 2016
出版来源
纳米收敛
卷号
3.
第一页
6
摘要
用电化学双层电容测量了电沉积Ni、Co和NiCo薄膜的表面积，用[Ru(NH3.）6］3 +/[俄文(NH3.）6］2 +氧化还原偶和地形原子力显微镜(AFM)成像。这三种方法分别对每种成分和整个样本集进行比较，而不考虑其成分。双层电容测量被发现与由AFM地形确定的粗糙度因子正相关。电化学面积测量被发现与测量的粗糙度因子相关性较小，并且只适用于研究的三种成分中的两种。结果表明，原位双层电容测量是一种实用的、通用的估计金属样品可接触表面积的技术。
建议引用
吉拉，马修J.，凯文P.特卡兹，詹妮弗R.汉普顿。电沉积Ni, Co和NiCo薄膜的物理和电化学面积测定。纳米收敛3,没有。1(2016年1月29日):6。doi: 10.1186 / s40580 - 016 - 0063 - 0。
